В рамках 29-й Всероссийской межвузовской научно-технической конференции студентов и аспирантов «Микроэлектроника и информатика-2022», которая состоялась 21-22 апреля на базе МИЭТа, для молодых исследователей была организована Школа «Синхротронные и нейтронные исследования для микро- и наноэлектроники». Мероприятие прошло на площадке «МИЭТ» Особой экономической зоны «Технополис Москва». Участниками стали более тридцати студентов и аспирантов университета, молодые специалисты, а также представители ведущих научных и производственных организаций, в партнерстве с которыми МИЭТ реализует проект по развитию безмасочной рентгеновской нанолитографии.
«В правительстве ставятся амбициозные задачи, в том числе по созданию отечественного литографа с использованием рентгеновского излучения. В обсуждаемом в настоящее время национальном проекте развитию радиоэлектронной промышленности на период до 2030 года предусмотрено финансирование этого направления. От нас ждут серьезных прорывов, работать необходимо в форсированном режиме. Давайте поработаем вместе», – призвал во вступительном обращении к участникам Школы ректор МИЭТ Владимир Беспалов.
Программа Школы «Синхротронные и нейтронные исследования для микро- и наноэлектроники» включала ряд докладов о состоянии дел в текущих проектах, связанных с разработкой установки безмасочной рентгеновской литографии: по созданию ее облика, критических технологий элементов и ключевых узлов, подходов к созданию МЭМС-динамических масок, использованию различных источников рентгеновского излучения и т.д.
«Ключевой задачей школы был обмен опытом в очном режиме общения между ключевыми участниками проекта «Рентген-Литограф», оценка состояния дел и выстраивание дальнейшей стратегии реализации проекта», – пояснил модератор школы, директор ЦКП «Микросистемная техника и электронная компонентная база» (ЦКП «МСТ и ЭКБ») Николай Дюжев.
Приглашение принять участие в работе школы получили ученые НИЦ «Курчатовский институт», нижегородского ФИЦ ИПФ РАН, Института ядерной физики МГУ им. М.В. Ломоносова, группы компаний ЭСТО, АО «НИИМЭ», АО «ЗНТЦ», АО «ЭУФ ЛАбс», ООО «МАППЕР» и ООО «Поликетон».
Организаторы мероприятия собрали представительный состав докладчиков и слушателей – среди них было 5 докторов наук, 11 кандидатов наук, руководители и ведущие специалисты профильных предприятий. Более половины участников мероприятия составили студенты, аспиранты и молодые специалисты МИЭТ и ведущих высокотехнологичных предприятий Зеленограда.
«Участие молодежи в решении масштабных задач в области электроники, которые сегодня ставит государство, безусловно, очень важно, – высказался Н.И. Чхало, д.ф.-м.н., заведующий отделом Института физики микроструктур РАН. – Я в своей научной группе делаю ставку полностью на молодежь. Конечно, у молодых людей нет того опыта и знания, которые есть у «взрослых», зато есть ко всему большой интерес, энтузиазм, желание трудиться и по-хорошему абсолютная вера в себя. Этих ребят нужно корректировать, направлять и одновременно давать им достаточную степень свободы – тогда результат получается потрясающий».
С пленарного доклада Николая Чхало 21 апреля началась работа всей научно-технической конференции «Микроэлектроника и информатика-2022» – ученый посвятил более 20 лет научным исследованиям созданию отечественных установок безмасочной рентгеновской литографии. Его выступление содержало обзор критических технологий и подходов к разработке такого оборудования.
«Прототип такой установки был представлен в нашей публикации 2011 года – уже тогда мы показали, что такие технологии в России существуют, – рассказал Н.И.Чхало. – Для нас это всегда было флагом, мечтой. Надеемся, сейчас технология будет реализована. Обсуждение проекта на базе МИЭТа показало, что все его участники сплотились вокруг этой цели и понимают, что результат и ответственность будут общими».
Разработке облика синхротронной станции, используемой в качестве источника рентгеновского излучения для установки безмасочной рентгеновской нанолитографии, а также о преимуществах и проблемах использования такого источника участникам Школы рассказал В.Л. Носик, д.ф.-м.н., ведущий специалист Национального исследовательского центра «Курчатовский институт».
«Для «Курчатовского института» важно участие в этом проекте – являясь головным исполнителем Федеральной программы развития синхротронных и нейтронных исследований на 2019–2027 годы, мы понимаем необходимость синергии двух направлений: создания в России источников синхротронного излучения нового поколения и реализации конкретных проектов с их использованием, нацеленных на решение практических задач, в частности, рентгеновской литографии», – отметил В.Л. Носик.
Проект по разработке и исследованию перспективных материалов и наноструктур для технологии безмасочной рентгеновской нанолитографии с использованием источника синхротронного излучения, подготовленный коллективом ЦКП «МСТ и ЭКБ», получил поддержку Министерства образования и науки Российской Федерации в рамках Федеральной научно-технической программы развития синхротронных и нейтронных исследований и исследовательской инфраструктуры на 2019 – 2027 годы.
При реализации проекта особое внимание уделяется подготовке научных кадров по дополнительным профессиональным программам, в частности, новой программе «Синхротронное излучение в исследовании материалов и технологии микроэлектроники».
Научно-исследовательскую работу «Рентген-Литограф» по изучению возможности создания установки безмасочной рентгеновской нанолитографии с длиной волны 13,5 нм на базе синхротронного и/или плазменного источника в ЦКП «МСТ и ЭКБ» выполняют по заказу Министерства промышленности и торговли Российской Федерации.
